半導(dǎo)體市場乍暖還寒自半導(dǎo)體行業(yè)步入下行周期以來,市場行情走勢從“量價齊升”轉(zhuǎn)為“量增價跌” 的局面,相關(guān)廠商不得不實施庫存調(diào)整、減產(chǎn)等策略多管齊下,力求供需平衡。
隨著原廠大幅減產(chǎn),智能手機、PC等終端應(yīng)用陸續(xù)回穩(wěn)重啟拉貨潮,帶動存儲芯片市況谷底翻揚。
業(yè)界認為,從明年來看,存儲芯片、硅晶圓、MCU等領(lǐng)域走線不一,但將殊途同歸,在不久的將來半導(dǎo)體行業(yè)或迎來上升。
近日,據(jù)中國臺灣經(jīng)濟日報報道,西部數(shù)據(jù)對客戶發(fā)出漲價通知信,并預(yù)期未來幾季NAND芯片價格會周期性上漲,累計漲幅可能比當前報價高五成以上、達55%。
前十大晶圓代工業(yè)者排名出爐根據(jù)TrendForce集邦咨詢研究,隨著終端及IC客戶庫存陸續(xù)消化至較為健康的水位,及下半年iPhone、Android陣營推出新機等有利因素,帶動第三季智能手機、筆電相關(guān)零部件急單涌現(xiàn),但高通脹風(fēng)險仍在,短期市況依舊不明朗,故此波備貨僅以急單方式進行。此外,臺積電(TSMC)、三星(Samsung)3nm高價制程貢獻營收亦對產(chǎn)值帶來正面效益,帶動2023年第三季前十大晶圓代工業(yè)者產(chǎn)值為282.9億美元,環(huán)比增長7.9%。
其中,臺積電(TSMC)第三季營收環(huán)比增長10.2%,達172.5億美元;三星晶圓代工事業(yè)(Samsung Foundry)第三季營收達36.9億美元,環(huán)比增長14.1%;格芯(GlobalFoundries)與第二季相近,約18.5億美元;中芯國際(SMIC)第三季營收環(huán)比增長3.8%,達16.2億美元;英特爾IFS第三季營收環(huán)比增長約34.1%,約3.1億美元。
Q3存儲產(chǎn)業(yè)營收回顧根據(jù)TrendForce集邦咨詢調(diào)查顯示,2023年第三季DRAM產(chǎn)業(yè)合計營收達134.80億美金,季成長率約18.0%;第三季NAND Flash位元出貨量環(huán)比增長3%,整體合并營收來到92.29億美元,環(huán)比增長幅度約2.9%。
具體來看,在第三季中,DRAM方面,三星(Samsung)DRAM營收季增幅度約15.9%,約52.50億美元;SK海力士(SK hynix)營收約46.26億美元,季增幅度達34.4%;美光(Micron)營收季增幅度約4.2%,達30.75億美元。
NAND Flash方面,三星第三季NAND Flash營收為29.0億美元,持平第二季;鎧俠(Kioxia)營收下跌至13.4億美元,環(huán)比減少8.6%;美光(Micron)第三季營收小幅下滑至11.5億美元,環(huán)比減少5.2%;SK集團(SK hynix & Solidigm)第三季NAND Flash營收約18.6億美元,環(huán)比增長11.9%;西部數(shù)據(jù)NAND Flash部門營收達15.56億美元,環(huán)比增長13.0%
半導(dǎo)體IPO新進展今年8月27日,國內(nèi)證監(jiān)會發(fā)布優(yōu)化IPO、再融資監(jiān)管安排,稱“根據(jù)近期市場情況,階段性收緊IPO節(jié)奏,促進投融資兩端的動態(tài)平衡”,同時還對上市公司再融資行為作出部分條件限制。在上述規(guī)定發(fā)布后,據(jù)全球半導(dǎo)體觀察不完全統(tǒng)計,8月27日至12月2日期間,滬深北三地交易所合計受理42家,而在10月、11月滬深兩地交易所罕見出現(xiàn)“零受理”的情況。
近期,京儀裝備、功率半導(dǎo)體廠商鉅芯科技、熱場材料商奧億達、SiC設(shè)備商優(yōu)晶科技、電子器件提供商盛景微、康希通信、電子特氣廠商博純材料、國產(chǎn)干膜光刻膠供應(yīng)商初源新材8家企業(yè)IPO再有新動態(tài)。
11月29日,京儀裝備在上海證券交易所科創(chuàng)板上市。首次公開發(fā)行數(shù)量為4200萬股,發(fā)行價為31.95元/股,上市當日開盤價為60.12元/股,市值超百億,募集資金總額為13.42億元,用于集成電路制造專用裝備研發(fā)基地項目和補充流動資金。
11月17日, 康希通信在上海證券交易所科創(chuàng)板上市。康希通信本次IPO公開發(fā)行股票1629萬股,發(fā)行價格10.5元,募集資金總額為6.68億元
一文了解CXL 3.1目前業(yè)界對于CXL的熟識程度遠遠不及PCI-e、HBM等新型存儲技術(shù),主要是因為目前PCIe還有其適用性,而歸根結(jié)底是因為該技術(shù)發(fā)展過于新、發(fā)展過于迅速。CXL全稱Compute Express Link,是一個全新的得到業(yè)界認同的互聯(lián)技術(shù)標準,其可以有效解決內(nèi)存墻和IO墻的瓶頸。PCI-e技術(shù)是CXL技術(shù)的底層基礎(chǔ),CXL則可視為PCI-e技術(shù)的再提高版本,并且,CXL延伸了更多變革性的功能。
2019年至今,CXL已經(jīng)發(fā)表了1.0/1.1、2.0、3.0/3.1五個不同的版本,CXL2.0內(nèi)存的池化(Pooling)功能較好的實現(xiàn)了以內(nèi)存為中心的構(gòu)想;CXL3.0則實現(xiàn)Memory sharing(內(nèi)存共享)和內(nèi)存訪問,在硬件上實現(xiàn)了多機共同訪問同樣內(nèi)存地址的能力;而CXL3.1,則具備開啟更多對等通信通道的能力,實現(xiàn)了對內(nèi)存和存儲的獨立分離,形成獨立的模塊。并且新規(guī)范將支持目前仍在研發(fā)中的DDR6內(nèi)存。